परिभाषित करें
बड़ा उपकरण जिसे सेल में नहीं ले जाया जा सकता, बैच में काम करना आवश्यक है और आमतौर पर साझा संसाधन होता है; पर्दा स्मारक से उत्पन्न होता है।
इस अवधारणा को समझना
स्मारक ऐसे बड़े साझा उपकरण हैं जिन्हें सेल में स्थानांतरित नहीं किया जा सकता और जिनमें बैच में काम करना आवश्यक होता है, जैसे बड़ी प्रेस या हीट-ट्रीटमेंट भट्ठी। यह एकल-पीस प्रवाह को तोड़ता है और सेलुलर उत्पादन में प्रवाह का अवरोध बनता है। दक्षता संतुलित करने के लिए आम तौर पर इसके आगे और पीछे इन्वेंटरी बफ़र, यानी “पर्दे”, स्थापित करने पड़ते हैं; यदि स्मारक स्वयं बैच प्रक्रिया है, तो पर्दों की संख्या दोगुनी करनी पड़ती है। स्मारकों की पहचान से लेआउट और सामग्री प्रवाह की योजना बनाने में मदद मिलती है; इसका आउटपुट उपकरणों की स्पष्ट सूची और बफ़र रणनीति है।
व्यावसायिक परिदृश्य का उदाहरण
नई उत्पादन लाइन की योजना बनाते समय पता चलता है कि आकार और लागत के कारण बड़ी इंजेक्शन मोल्डिंग मशीन को सेल में नहीं रखा जा सकता; वह कई उत्पादों की सेवा कर सकती है, लेकिन केवल बैच में चलती है। इस स्थिति में उसका चक्र समय (बैच सहित) निकालें, फिर पर्दा नियम के अनुसार बफ़र निर्धारित करें—क्योंकि यह बैच प्रक्रिया है, पर्दों की संख्या दोगुनी करनी होगी, ताकि सेल के भीतर एकल-पीस प्रवाह प्रभावित न हो। उचित योजना से उपकरण की क्षमता का उपयोग करते हुए समग्र प्रवाह दक्षता बनाए रखी जाती है।